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2012年12月27日 掲載

 

 

台湾編

 

 

 台湾では、特許法(日本の特許法、実用新案法、意匠法を合わせたものに該当)、商標法が2011年に改正され、商標法については2012年7月に、特許法については2013年1月に施行されます。今回は主な改正点も含め、台湾の知的財産権制度をQ&A形式でご紹介します。

 

 

Q 1 台湾の知的財産制度にはどのようなものがありますか?
A 1

日本と同じで、特許(発明専利)、実用新案(新型専利)、意匠(新様式専利)、商標の制度があります。その他、著作権法、営業秘密法、集積回路の回路配置保護法、植物品種及び種苗法等、日本と同様な知的財産関連法令があります。

 

 

Q 2 台湾特許制度の特徴は?
A 2

台湾特許制度の主な特徴は次のとおりです。

【特許制度の特徴】

(1)出願方法

 台湾は、特許協力条約(PCT)に加盟しておりませんので、PCT出願の指定国とすることができません。別途、台湾へ出願する必要があります。ただし、台湾はWTO(TRIPs協定)の加盟国ですので、日本企業は優先権を主張して台湾へ出願することができます。

 なお、今回の改正で、特許出願時に優先権を主張しなかった場合でも、優先権主張日から16か月以内であれば、優先権の回復を申請できるようになりました。

(2)出願言語

 原則は中国語で行いますが、日本語で行うことも可能です。ただし、この場合は、出願から6か月以内に中国語(繁体字)の翻訳文を提出する必要があります。

(3)新規性喪失の例外適用について

 今回の改正で、日本と同様に出願人の意図による刊行物発表が例外として追加されました。すなわち、特許出願の前に発表してしまった場合でも発表日から6か月以内なら出願できます。しかし、第3者が先に出願した場合は無効になりますので、先に出願しておくことが肝要です。

(4)権利期間

 日本と同様で出願日から20年間です。

(5)特許出願及び実用新案登録出願の併願制度

 今回の改正で特許出願及び実用新案登録出願の併願制度が新設されました。同一出願人が同一日にそれぞれ出願できますが、特許出願が登録許可となった場合に、いずれか一方を出願人が選択することになります。出願人が特許を選択した場合には実用新案権は最初からなかったものとみなされます。

 

 

Q 3 台湾実用新案制度について教えてください。
A 3

 日本と同様で無審査主義を採用しています。また、技術評価制度も規定されており、技術評価書を提示して警告した後でなければ、被疑侵害者に対して損害賠償請求ができません。なお、権利期間は日本と同様で出願日から10年間です。

 

 

Q 4 台湾意匠制度について教えてください。
A 4

 今回の改正で、日本でも採用されている「部分意匠制度」、「組物意匠制度」、「関連意匠制度」、「画面デザイン(コンピュータアイコン、グラフィカルユーザーインターフェース等)保護の拡充」が採用されました。なお、意匠権の権利期間は出願日から12年間となっており、日本より短くなっています。(日本は登録日から20年間)

 

 

Q 5 台湾商標制度について教えてください。
A 5

主な改正点は次のとおりです。

【商標制度の特徴】

(1)権利期間

 日本と同様で、権利期間は登録日から10年間で、更新登録をすれば商品が使用されている限り続けて権利が保護できます。

(2)マドプロ出願

 台湾はマドリット協定に加盟していないため個別に出願する必要があります。(マドプロ出願はできません。)

(3)保護対象

 今回の改正で保護対象が拡大され、動く動画、ホログラム(視覚の差異によって生じる図像の変化)、匂いが追加されました。よって日本よりも対象が広くなっております。(日本では2012年現在、動く動画、ホログラム、匂いは対象外です。)

(4)先取り出願の登録不可事由の改正

 先取り商標の拒絶として、他人の商標であることを知りながら意図して模倣し登録出願する場合は登録不可となることが明記されました。

(5)商標の不使用取消

 日本と同様に、登録商標を継続して3年以上使用していない場合には商標登録を取り消されることが明記されました。

 

 

 台湾における知的財産に関する出願、契約や模倣品対策などに関しては、東京都知的財産総合センターへご相談ください。

 

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