技術分野:光学、精密機器(計測器、分析器等)、加工・製造関連
掲載日:2019/1/29
分野 | :知的財産全般(特許・実用新案・意匠・商標・著作権・不正競争防止法・営業秘密等) |
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開催日時 | 平成31年3月5日(火) 14時00分〜17時30分 (受付開始:午後13時30分〜) |
会場 | 板橋区立文化会館 4階大会議室 (東京都板橋区大山東町51-1) 地図はこちら |
プログラム | 14:00開会 14:00〜14:10知的財産活用製品化支援事業概要説明 14:10技術シーズ提供4機関による開放特許等の紹介 14:10〜14:40 NHKエンジニアリングシステム 14:40〜15:10 東京工業大学 15:10〜15:40 富士ゼロックス 15:40〜16:10 東京都立産業技術研究センター 14:10〜17:30個別面談(予約制) 17:30閉会 ■ご案内チラシ(PDFファイル)■ |
対象 | 都内中小企業の方、都内個人事業主の方 |
定員 | 30社(定員になり次第締め切らせていただきます) |
申込 | FAXまたは、以下の申込フォームに入力、送信してください。 都合により欠席される場合は、必ずご連絡ください。 |
費用 | 無料 |
その他 | ご希望に応じて、(公財)東京都中小企業振興公社 知的財産総合センターのコーディネーターが技術関連契約の締結から試作・販路開拓まで継続的な個別支援を実施します。 |
連絡先 | 東京都知的財産総合センター【担当:大久保】 電話:03-3832-3656 FAX:03-3832-3659 E-mail:chizai@tokyo-kosha.or.jp |
※上記利用目的の(2)を希望されない方は、当該事業担当者までご連絡ください。
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